| 查看: 1526 | 回复: 6 | ||||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | ||||
[求助]
光刻工艺
|
||||
| 请问光刻胶的曝光时间和软烘时间有关系吗？是不是在其他条件不变的情况下，软烘时间越长需要的曝光时间也越长？望指导！谢谢 |
回复此楼» 猜你喜欢
求调剂
已经有3人回复
-
化工学院（学院正式调剂群+联系方式）
已经有0人回复
-
金属材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有99人回复
-
化工学院（学院官方群）-院士团队招生-学生自由度高-培养模式成熟高效
已经有0人回复
-
黑龙江大学分析化学招调剂
已经有0人回复
-
武汉高校国家级人才团队招收材料，化学，纺织等专业硕士调剂生
已经有26人回复
-
纺大化工学院（官方群）-院士团队招生-学生自由度高发展好-培养模式成熟
已经有0人回复
-
温州大学化材学院王娟课题组招生
已经有5人回复
-
学院官方群-院士团队招生-学生自由度高-培养模式成熟已有10余名学生赴985海外深造
已经有0人回复
-
武汉纺织大学化工学院官方群-院士团队招生-学生自由度高-10余名学生赴985海外深造
已经有0人回复
-
南昌航空大学蒋华麟教授课题组招收化学、环境、碳达峰碳中和及相关专业硕士信息
已经有0人回复
5楼2012-09-18 19:29:48
Jackcd12
至尊木虫 (知名作家)
- MN-EPI: 1
- 应助: 2150 (讲师)
- 金币: 13872.4
- 红花: 366
- 帖子: 7625
- 在线: 2165.4小时
- 虫号: 1865159
- 注册: 2012-06-20
- 性别: GG
- 专业: 电化学
2楼2012-09-13 13:10:52
semi-white
铁杆木虫 (著名写手)
Pay first, then get.
- MN-EPI: 4
- 应助: 440 (硕士)
- 贵宾: 0.361
- 金币: 4203.9
- 散金: 2186
- 红花: 43
- 帖子: 1505
- 在线: 603.1小时
- 虫号: 468457
- 注册: 2007-11-27
- 性别: GG
- 专业: 光谱分析
3楼2012-09-13 14:13:14
yswyx 
专家顾问 (著名写手)
-
专家经验: +651 - MN-EPI: 8
- 应助: 807 (博后)
- 贵宾: 0.204
- 金币: 2618.9
- 散金: 6018
- 红花: 112
- 帖子: 2705
- 在线: 577.8小时
- 虫号: 446878
- 注册: 2007-10-30
- 性别: GG
- 专业: 半导体微纳机电器件与系统
- 管辖: 微米和纳米
【答案】应助回帖
|
soft baking在理论上来说是去除溶剂，但不仅仅是去除溶剂的过程。软烘时间长对光刻曝光时间和显影时间的影响是很大的，而对于不同成膜树脂的胶，这种影响又有所不同。 传统的我们用到的光刻胶，软烘时间长，不仅仅会去除溶剂，还会发生树脂的热化学反应，树脂会交链。这样的话，对于正胶来说，我们就需要更高的曝光剂量来破坏交联，也就是曝光的时间会延长。对应的显影的时间也会因为交联而延长。而且光刻胶的整体性能会下降，底膜会很不干净。 而IC领域用的CAR，化学放大胶，相对而言soft baking对曝光时间的影响不是那么大，因为破坏交联的主要反映发生在PEB。 soft baking时间长对光刻是很有害的，如果你怕粘附不好，尽量把片子洗干净吧。 |
4楼2012-09-18 19:12:49
