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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 合成表征 » 氧化铝----陶瓷和单晶---磁控溅射
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ncepuchen

银虫 (正式写手)

[求助] 氧化铝----陶瓷和单晶---磁控溅射

哪位大侠能够系统的介绍一下氧化铝？主要是它的形态。
磁控溅射中，用陶瓷的好，还是用单晶的好，陶瓷的可能会出现断裂，两者的镀膜质量和镀出来的氧化铝膜形态一样吗？
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知识的价值在于为创造想象，为我所用
1楼 2012-09-07 09:38:34
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ncepuchen

银虫 (正式写手)
引用回帖:
13楼: Originally posted by tudou33 at 2013-03-05 16:43:53
你好，请问您摸索的溅射氧化铝怎么样了，反应溅射还是直接溅射氧化铝？

后面改用了热蒸发镀铝，再在CVD系统中退火
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知识的价值在于为创造想象，为我所用
14楼2013-03-05 18:58:37
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bazhuayuyu

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★
感谢参与，应助指数 +1
ncepuchen: 金币+2, ★★★★★最佳答案 2012-09-07 14:48:18
氧化铝的形态？不清楚你要问什么
磁控溅射做氧化铝膜没有单晶靶，一般都是铝靶反应溅射，氧化铝陶瓷做靶材对电源要求比较高，两者镀膜质量一般来说陶瓷的好，但沉积速率慢，设备靶材都贵一些，铝靶控制上要求高，控制得好薄膜质量与陶瓷靶没什么差别，两种方法沉积的氧化铝都有非晶成分，需要退火改善
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» 本帖已获得的红花（最新10朵）

ncepuchen
2楼2012-09-07 13:08:06
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wu1008

金虫 (著名写手)
氧化铝单晶作溅射靶材？lz有钱人！
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3楼2012-09-07 14:38:12
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ncepuchen

银虫 (正式写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by bazhuayuyu at 2012-09-07 13:08:06
氧化铝的形态？不清楚你要问什么
磁控溅射做氧化铝膜没有单晶靶，一般都是铝靶反应溅射，氧化铝陶瓷做靶材对电源要求比较高，两者镀膜质量一般来说陶瓷的好，但沉积速率慢，设备靶材都贵一些，铝靶控制上要求高，控 ...

主要是想用Al2O3来做衬底，并在上面镀Fe的催化剂颗粒，Al2O3能起到良好的限制Fe颗粒的粒径，所以想知道磁控溅射做的Al2O3最表面是什么形貌，铝空气中自然氧化也会形成Al2O3膜，用热蒸发镀铝之后再退火处理也会得到Al2O3膜,所以想知道它们的不同？
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知识的价值在于为创造想象，为我所用
4楼2012-09-07 14:55:22
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