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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术交流 » 二氧化硅表面羟基数增加的原因
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励志小熊

金虫 (小有名气)

[求助] 二氧化硅表面羟基数增加的原因

求教：硝酸能增加二氧化硅表面羟基数的原因，要是有文献是最好不过了！本人刚刚踏入这个课题，真心不会啊，请高手指点！
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1楼 2012-07-16 21:42:36
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liao_yun

银虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
励志小熊: 金币+3, ★有帮助 2012-07-20 10:16:00
有可能是吸附问题，来自环境的影响
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繁华三千，静默流年
4楼2012-07-19 17:04:21
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refnew

专家顾问 (知名作家)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
励志小熊: 金币+4, ★★★很有帮助 2012-07-17 10:50:27
这个还需要文献？

氧化硅表面是Si-O-Si
只要被酸打开，形成Si-OH就多了
无机化学最基本的了
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2楼2012-07-16 21:52:49
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励志小熊

金虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by refnew at 2012-07-16 21:52:49
这个还需要文献？

氧化硅表面是Si-O-Si
只要被酸打开，形成Si-OH就多了
无机化学最基本的了

我一个机械类的娃在导师的安排下做纳米材料，木有学过四大化学谢谢您，看来我得借本书了！
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3楼2012-07-17 10:52:34
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