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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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cmyu

金虫 (正式写手)

[求助] 空白溶液连续循环伏安扫描后峰消失,这说明什么呢?

在含有待测物质的测试溶液中,连续扫描循环伏安,其氧化峰逐渐降低并趋于稳定,但并不为零。将做过实验的电极清洗后,再置于空白缓冲溶液中扫描循环伏安,一开始有峰,但扫描多圈后,最终峰消失。这种现象能说明什么?吸附?扩散?求高人指点。
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abc5710110

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
cmyu: 金币+5, 有帮助 2012-07-01 12:57:32
seagrove: 金币+3, 感谢应助 2012-07-01 19:21:02
在含有待测物质的测试溶液中,连续扫描循环伏安,其氧化峰逐渐降低并趋于稳定,但并不为零。
吸附脱附 扩散都有,只是看哪个占主导了,应该是扩散占主导,不同扫数表征一下。我给你传个网上的PPT,里面有关于你出现的这种现象的介绍。

将做过实验的电极清洗后,再置于空白缓冲溶液中扫描循环伏安,一开始有峰,但扫描多圈后,最终峰消失。这种现象能说明什么?吸附?扩散?求高人指点。
应该是吸附,随着CV的进行,吸附的底物不断消耗,最终峰消失。

多巴胺、抗坏血酸的电化学方法测定.ppt
http://kuai.xunlei.com/d/GOVYJDHGKPGZ?p=130497
强化多边交流,实现互利共赢
2楼2012-07-01 00:10:51
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cmyu

金虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by abc5710110 at 2012-07-01 00:10:51
在含有待测物质的测试溶液中,连续扫描循环伏安,其氧化峰逐渐降低并趋于稳定,但并不为零。
吸附脱附 扩散都有,只是看哪个占主导了,应该是扩散占主导,不同扫数表征一下。我给你传个网上的PPT,里面有关于你出现 ...

低扫速时,电流与扫速呈线性,高扫速时,电流与扫速偏离线性。这是说明低扫速时是吸附控制,而高扫速时则不是?另外,假如做过实验后的电极置于空白中扫描,没有任何峰, 这说明物质在电极上的反应完全受扩散控制?
谢谢你的指点!期待您的解惑!
3楼2012-07-01 13:01:22
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abc5710110

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

seagrove: ECEPI+1, 应助积极,奖励! 2012-07-01 19:21:41
"高扫速时,电流与扫速偏离线性....."
试试扫数平方根与电流的关系。
好像很多都是你说的这种现象。高扫数时电极表面的物质迅速被消耗掉,形成浓度梯度,溶液周围的物质向电极表面扩散。

假如做过实验后的电极置于空白中扫描,没有任何峰, 这说明物质在电极上的反应完全受扩散控制?

空白中没有峰,说明没有发生反应。
你所说的物质的扩散控制  我的理解是电极要直接检测的那个物质(可以是直接的底物,如AA,UA,也可以是反应产生的物质,如GOX与GLU反应后的产物H2O2),不能理解为空白中没有峰,就认为底物没有吸附在电极上,就没有吸附的过程了。所以不能说完全,太绝对了。可以说占主导或主要是受扩散控制。
我是这么认为的,不知道对不对?本身不是学这个的。呵呵。
强化多边交流,实现互利共赢
4楼2012-07-01 17:28:05
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