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多晶金刚石晶棱上的缺陷
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如题, 金刚石膜是采用MPCVD法,以氢气和甲烷为工作气体,并加入了少量氮气,在钼基底上沉积制备得到的(自己做的装置,可能有点漏气)。刻蚀是在ECR装置中进行的(基板接地,未加热),工作气体为氧气。刻蚀后晶棱处像是被割裂开了一样,金刚石膜长得不是很好,晶棱处不是很完整,但是长得相对较好的位置处也有类似张裂的痕迹。我主要从两个方面考虑,一个可能是和等离子体有关,考虑的是等离子体和材料的作用机理,这个主要是从鞘层方面分析的;另外一个可能是和金刚石本身有关,可能是晶棱处有什么很特别的缺陷或是其他什么原因,但是关于晶体这一块相对薄弱,不知道从哪个方面思考,一直没有一个特别合理的解释,特向大家求助! 另外附上两张SEM图。[ 来自科研家族 材料家族 ] |
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本内容由用户自主发布,如果其内容涉及到知识产权问题,其责任在于用户本人,如对版权有异议,请联系邮箱:xiaomuchong@tal.com - 附件 1 : 未刻蚀部分-1.jpg
- 附件 2 : 被刻蚀部分-1.jpg
2012-05-11 20:52:40, 346.73 K
2012-05-11 20:52:48, 483.65 K
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