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多晶金刚石晶棱上的缺陷
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如题， 金刚石膜是采用MPCVD法，以氢气和甲烷为工作气体，并加入了少量氮气，在钼基底上沉积制备得到的(自己做的装置，可能有点漏气)。刻蚀是在ECR装置中进行的（基板接地，未加热），工作气体为氧气。刻蚀后晶棱处像是被割裂开了一样，金刚石膜长得不是很好，晶棱处不是很完整，但是长得相对较好的位置处也有类似张裂的痕迹。我主要从两个方面考虑，一个可能是和等离子体有关，考虑的是等离子体和材料的作用机理，这个主要是从鞘层方面分析的；另外一个可能是和金刚石本身有关，可能是晶棱处有什么很特别的缺陷或是其他什么原因，但是关于晶体这一块相对薄弱，不知道从哪个方面思考，一直没有一个特别合理的解释，特向大家求助！ 另外附上两张SEM图。[ 来自科研家族 材料家族 ] |
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本内容由用户自主发布，如果其内容涉及到知识产权问题，其责任在于用户本人，如对版权有异议，请联系邮箱：xiaomuchong@tal.com - 附件 1 : 未刻蚀部分-1.jpg
- 附件 2 : 被刻蚀部分-1.jpg
2012-05-11 20:52:40, 346.73 K
2012-05-11 20:52:48, 483.65 K
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