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plums_1

金虫 (正式写手)

应助: 3 (幼儿园)
金币: 3507.1
帖子: 443
在线: 58.4小时
虫号: 1434976

[交流] 抛光的硅片是否要去机械损伤层

想求教一下抛光的硅片在清洗时是否要去机械损伤层？
我们上一次用20%的NaOH85℃恒温五分钟去机械损伤层，发现硅片上竟然有一些白色的东西，用盐酸和硝酸都去不掉。请问有办法解决吗？非常感谢！

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1楼 2012-04-14 15:04:12

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plums_1

金虫 (正式写手)

应助: 3 (幼儿园)
金币: 3507.1
帖子: 443
在线: 58.4小时
虫号: 1434976

plums_1: 回帖置顶 2012-04-18 08:54:33

求建议

4楼2012-04-18 08:54:14

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jinxiyu

铜虫 (初入文坛)

博学EPI: 1
应助: 14 (小学生)
金币: 103.5
帖子: 48
在线: 71.6小时
虫号: 1245344

★ ★
wenjing120: 金币+1, 鼓励交流！欢迎常来科研版！ 2012-04-14 23:11:48
plums_1: 金币+1 2012-04-15 09:33:01

抛光硅片本身就没有损伤层的。在硅片抛光以前，有一道工序就是腐蚀，其目的就是去除硅片表面受加工应力而形成的损伤层。腐蚀有酸性腐蚀和碱性腐蚀两种。

2楼2012-04-14 22:02:45

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