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抛光的硅片是否要去机械损伤层
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plums_1
金虫
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虫号: 1434976
[交流]
抛光的硅片是否要去机械损伤层
想求教一下
抛光的硅片
在清洗时是否要去机械损伤层?
我们上一次用20%的NaOH85℃恒温五分钟去机械损伤层,发现硅片上竟然有一些白色的东西,用盐酸和硝酸都去不掉。请问有办法解决吗?非常感谢!
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2012-04-14 15:04:12
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jinxiyu
铜虫
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wenjing120: 金币+1, 鼓励交流!欢迎常来科研版!
2012-04-14 23:11:48
plums_1: 金币+1
2012-04-15 09:33:01
抛光硅片本身就没有损伤层的。在硅片抛光以前,有一道工序就是腐蚀,其目的就是去除硅片表面受加工应力而形成的损伤层。腐蚀有酸性腐蚀和碱性腐蚀两种。
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2楼
2012-04-14 22:02:45
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plums_1
金虫
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plums_1: 回帖置顶
2012-04-18 08:54:33
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2012-04-18 08:54:14
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liukun261
3楼
2012-04-14 23:57
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2012-04-16 16:08:02
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