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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 材料其他 » 进行磁控溅射时，如果不用外部加热器，基体温度为多少
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葵花点穴手h

银虫 (小有名气)

[求助] 进行磁控溅射时，如果不用外部加热器，基体温度为多少 已有1人参与

进行磁控溅射时，如果不用外部加热器，基体会受到离子撞击，应该会升温，想知道能够达到多少度？
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做学术是一件严谨的事
1楼 2012-04-12 16:00:31
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chengboo

铁杆木虫 (正式写手)
引用回帖:
11楼: Originally posted by spyan581 at 2012-04-14 03:17:31
与冷却条件有关，更与溅射靶材功率有关，基体偏压大小有关，我的实验条件下测量可达280度左右。

请问你是怎样测量溅射时靶材的温度的啊？
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老干部
17楼2013-05-18 10:51:55
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wbcui

至尊木虫 (知名作家)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
这个看你溅射多长时间了

我觉得：
使用DC的话，产生热量比较少，溅射5min的话，升温不会超过10oC
但是要是使用RF的话，产生热量比较多，同样时间，会升温10oC以上
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2楼2012-04-12 16:44:48
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wzcrazy

至尊木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
wbcui: 金币+1, 多谢帮助 2012-04-12 20:03:55
葵花点穴手h: 金币+2 2012-04-12 20:58:42
这跟功率和溅射时间都有关系 如果功率比较大的话 升到100多还是很容易的
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3楼2012-04-12 17:17:57
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葵花点穴手h

银虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by wzcrazy at 2012-04-12 17:17:57:
这跟功率和溅射时间都有关系 如果功率比较大的话 升到100多还是很容易的

那电弧离子镀呢，是不是也会升温
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做学术是一件严谨的事
4楼2012-04-12 18:48:47
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