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clchen

禁虫 (正式写手)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
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21楼2012-04-10 16:04:27
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阿亓儿

铜虫 (初入文坛)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
引用回帖:
17楼: Originally posted by clchen at 2012-04-10 14:56:34:
不客气,就依你懂的MOCVD来讨论:
采用MOCVD在sapphire上长GaN,
c-plane 基板上出c GaN,
m-plane 基板上很容易长出m+c GaN,条件控制好了可以出纯m或纯c的GaN, 这点你可以验证一下

哦  谢谢   
我的意思是,与衬底平行的那一面 不是c面
m plane sapphire上面长,GaN还是按照极性的长,只是它的C面与衬底有一定的偏角;而真正与sapphire面平行的,还是m plane——这个可同意?

不知我的意思能否理解?
22楼2012-04-10 16:44:09
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阿亓儿

铜虫 (初入文坛)

引用回帖:
20楼: Originally posted by MANOWAR at 2012-04-10 15:14:26:
请问您的MOCVD一般用来做哪方面生长?

gan on si

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23楼2012-04-10 16:49:45
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diwunju

铁杆木虫 (正式写手)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
引用回帖:
18楼: Originally posted by MANOWAR at 2012-04-10 15:06:15:
看了你的回答,我不得不说,你孤陋寡闻了。

同学,你讨论的是“外延”。epitaxy源于希腊语,epi表示沿着一个方向,tax是堆积的意思,“外延”的定义就是沿着衬底的晶向生长。如果你讨论的问题不是沿着衬底的晶向生长,你就不在讨论“外延”。所以,我说你的问题实际上没办法回答。
24楼2012-04-10 19:54:01
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紫荆空间

银虫 (著名写手)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
衬底的取向会影响上层薄膜的结晶取向,但也受制备工艺的影响。

» 本帖已获得的红花(最新10朵)

25楼2012-04-10 20:48:35
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MANOWAR

金虫 (正式写手)

引用回帖:
24楼: Originally posted by diwunju at 2012-04-10 19:54:01:
同学,你讨论的是“外延”。epitaxy源于希腊语,epi表示沿着一个方向,tax是堆积的意思,“外延”的定义就是沿着衬底的晶向生长。如果你讨论的问题不是沿着衬底的晶向生长,你就不在讨论“外延”。所以,我说你的 ...

同学,我们现在讨论的也算是科技方面的学术问题,不是咬文嚼字。再说了,MOCVD本来就是外延技术的一种,但是MOCVD外延层与衬底确实并非完全对应,楼上的一些网友也举了例子,那么按着你所说的外延的定义,MOCVD外延薄膜与衬底晶向不同,那也就意味着MOCVD并不是外延技术嘛~那你认为MOCVD应该该类为何技术?
26楼2012-04-11 09:04:03
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MANOWAR

金虫 (正式写手)

引用回帖:
21楼: Originally posted by clchen at 2012-04-10 16:04:27:
只能说那个作者没捉到长m面GaN在m面蓝定石上的条件,c面也一样.
搜到一篇m GaN on m sapphire文章:JCG 325 (2011),85.
还有一篇Epitaxy of m-GaN on nanoscale patterned c-plane sapphire substrates, Surface ...

我也感觉自由能对于原子沉积位置起着关键作用,进而影响了最终薄膜取向。
那么按着您的意思,工艺条件也是对于生长界面自由能有重要影响了?不知道这个本质上是如何影响的。不知道大侠有没有看到过相关文献有介绍呢?
27楼2012-04-11 09:08:26
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MANOWAR

金虫 (正式写手)

送鲜花一朵
引用回帖:
25楼: Originally posted by 紫荆空间 at 2012-04-10 20:48:35:
衬底的取向会影响上层薄膜的结晶取向,但也受制备工艺的影响。

谢谢姐姐回答~请问您在实际工作生活中有没有现实的例子?最好能再简要介绍下其确定方法和表征方法。
28楼2012-04-11 09:14:18
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MANOWAR

金虫 (正式写手)

送鲜花一朵
引用回帖:
23楼: Originally posted by 阿亓儿 at 2012-04-10 16:49:45:
gan on si

请问大侠,您感觉在硅上生长氮化镓的材料质量如何?相比于其他衬底生长的氮化镓及氧化锌之类的半导体,硅上GaN在电学性能上有何优势吗?
29楼2012-04-11 09:17:50
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阿亓儿

铜虫 (初入文坛)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
引用回帖:
29楼: Originally posted by MANOWAR at 2012-04-11 09:17:50:
请问大侠,您感觉在硅上生长氮化镓的材料质量如何?相比于其他衬底生长的氮化镓及氧化锌之类的半导体,硅上GaN在电学性能上有何优势吗?

首先强调的是,硅上GaN外延,不是为了得到非常好的晶格质量才去这么做,如果是为这个目的,那肯定走SiC外延
硅外延就是说白了,降低成本。
别的异质衬底玩2inch  4inch,硅直接上8inch
目前做的最好的应该是samsung,出来的水平跟sapphire平片长的水平一样,实力强悍

总结就是:初衷降低成本,目标提高晶格质量
30楼2012-04-11 10:16:49
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