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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 专业学科区 » 物理 » 凝聚态物理 » 磁控溅射能起辉，但不能沉积
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aptree18

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
8楼: Originally posted by feiepeng at 2012-03-26 09:37:08
氧化物靶时溅射气氛必须以纯Ar为主，只能通入微量的O，我们以前最早做的时候就是没有控制好气氛，导致溅射速率是几小时100nm左右，甚至几乎长不出膜，后来改了气氛以后45 min左右就可以长很厚了...

请问你改了气氛后，用的是什么气氛？长得很厚有厚啊？谢谢！
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11楼2013-05-02 17:10:46
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遮天绿叶

银虫 (初入文坛)
用混合气体溅射钛靶生长氧化钛时遇到过这样的问题，但是用纯氩气能很好的生长钛。一直没找到原因
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天生乐观，自由奋斗。
12楼2013-11-20 21:07:32
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znxc2014

银虫 (小有名气)
这个帖子对于初学溅射的来说，很有用，电源必须选好，不然太费事了
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13楼2014-03-05 13:32:08
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qi1990

新虫 (初入文坛)
最近我也遇到只起辉不沉积的现象，因为铝表面有一层氧化膜，所以你要等等过一段时间就可以了，等电压上去
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14楼2014-04-12 17:07:22
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hurui47

禁虫 (初入文坛)
本帖内容被屏蔽
15楼2014-09-08 11:05:54
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hurui47

禁虫 (初入文坛)
本帖内容被屏蔽
16楼2014-09-08 11:08:53
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luan001

木虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by leongoall at 2012-03-24 17:36:46
楼主为何利用射频源来溅射金属Al或者Zn呢？射频磁控溅射一般都是针对绝缘体的靶材或者导电性相对较差的靶材，利用同一周期内电子比正离子速度快进而沉积到靶材上的电子数目比正离子数目多从而建立起自偏压对离子进行 ...

Al在溅射过程中非常容易氧化，用直流氧气流量稍微大点就长不上去。
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踏实科研
17楼2014-11-05 09:06:24
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974463926

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
7楼: Originally posted by ybhan at 2012-03-26 09:31:38
我感觉你说反了，金属比较容易溅射，以前我溅射Au，Ag，Cu等材料，速度不是一般的快啊。金属氧化物才难得溅射...

请问我要溅射金属镍 或者钛的是要用直流溅射还是射频溅射
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18楼2015-07-18 10:23:19
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974463926

新虫 (初入文坛)
能问一下如果是溅射镍或者钛薄膜需要用直流溅射还是射频溅射，功率要多大，通什么气氛
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19楼2015-07-18 10:32:05
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vincentwz

铁杆木虫 (著名写手)
这个主要看偏压是不是足够，不能看功率的

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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20楼2015-07-18 10:35:19
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