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xiaoluoj

金虫 (正式写手)

[求助] 陷阱能级形成的微观机理

小弟做存储器的需要一些陷阱的知识,一直对陷阱比较困惑,我的理解是完美的结构是不会存在陷阱能级的,只有当结构的周期性发生改变时,如缺陷,掺杂等,才会引入陷阱能级,不知道这样的理解对不对?
   如果我的理解是正确的,那为什么周期性被破坏后就会引入陷阱能级,陷阱能级形成的微观机制是什么?
   还有我看一些资料引入的陷阱能级就在价带与导带之间,为什么陷阱能级(或陷阱能带)一定出现在原来的最外层,次外层之间
  望高手不吝赐教,不胜感激
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huangll99

木虫 (职业作家)

【答案】应助回帖

★ ★
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fzx2008(金币+1): 谢谢回帖交流! 2012-03-11 22:45:01
xiaoluoj(金币+1): 有帮助 2012-03-14 19:33:21
缺陷能级不一定在能隙里,只是能隙里的能级会对材料的电子性质有大的影响
2楼2012-03-11 19:54:34
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xiaoluoj

金虫 (正式写手)

引用回帖:
: Originally posted by huangll99 at 2012-03-11 19:54:34:
缺陷能级不一定在能隙里,只是能隙里的能级会对材料的电子性质有大的影响

为什么只是能隙里的能级会对材料的电子性质有大的影响呢?
3楼2012-03-14 19:34:35
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