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半导体薄膜制备及加工技术实验室
磁控溅射、电子束蒸镀制备金属薄膜Au,Ag,Al,Cu,Cr,Fe,Mo,Ni,非金属薄膜Al2O3,AZO,ITO,Si,SiO2,Si3N4,ZnO;IBE、RIE、WE刻蚀加工
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内容
我实验室为专门的薄膜制备与加工实验室,可以进行磁控溅射、电子束蒸镀、LPCVD镀膜加工,材料包括各种半导体材料和金属材料(Si,SiO2,Si3N4,ZnO,Al2O3,Al,Ag,Au,Cu,Cr,Mo等),金属、Si薄膜厚度可以为15-1000nm范围,SiO2,Si3N4等一般在15-500nm,特殊厚度另询。
同时提供IBE、RIE刻蚀服务,可刻蚀各种金属、非金属材料。单个基片直径需不大于4吋。
赵工
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