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半导体薄膜制备及加工技术实验室

磁控溅射、电子束蒸镀制备金属薄膜Au,Ag,Al,Cu,Cr,Fe,Mo,Ni,非金属薄膜Al2O3,AZO,ITO,Si,SiO2,Si3N4,ZnO；IBE、RIE、WE刻蚀加工

联系人: 赵工 / 邮箱: zyy44138172@126.com / 手机: 15108299816

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foxs2

木虫 (文坛精英)

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专业: 无机非金属类光电信息与功

[商家供应] 提供镀膜刻蚀服务

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内容

我实验室为专门的薄膜制备与加工实验室，可以进行磁控溅射、电子束蒸镀、LPCVD镀膜加工，材料包括各种半导体材料和金属材料（Si,SiO2,Si3N4,ZnO,Al2O3,Al,Ag,Au,Cu,Cr,Mo等），金属、Si薄膜厚度可以为15-1000nm范围，SiO2,Si3N4等一般在15-500nm，特殊厚度另询。
同时提供IBE、RIE刻蚀服务，可刻蚀各种金属、非金属材料。单个基片直径需不大于4吋。
赵工 zyy44138172@126.com 壹伍壹零捌贰玖玖捌壹陆

[ Last edited by foxs2 on 2016-1-19 at 15:25 ]

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