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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 工艺技术 » 工艺设计 » 求助关于用PECVD在硅片上生长SiO2的掩膜材料
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itsunami

禁虫 (初入文坛)
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1楼 2012-02-18 17:25:40
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大当家

铜虫 (小有名气)
★
mjlyxm(金币+1): 鼓励交流~~O(∩_∩)O~ 2012-03-08 19:48:08
我以前磁控溅射做薄膜的时候也是用铝箔纸做掩膜的，温度还400多呢，也没有事啊，你可以问问他为什么不可以啊，再问下LZ你们用的PECVD是什么品牌啊？因为我做PECVD销售呵呵，了解下



美国MV-System公司PECVD(等离子增强化学气相沉积)系统能够沉积高质量SiN、SiO、SiO2薄膜、Si3N4 薄膜、非晶硅、碳化硅、太阳能材料、类金刚石、类金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜等多种薄膜材料 和炭纳米管(CNT)等。可选用射频(RF)、空阴极高密度等离子体(HCD)源、感应耦合等离子体(ICP)源。该公司采用先进技术和稳定可靠的设计为您提供多方位的服务
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5楼2012-03-08 16:43:57
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359528331

新虫 (初入文坛)
不懂。。。。。。。
回复此楼
gg
2楼2012-02-19 20:55:32
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kebaoyuan

禁言 (小有名气)
感谢参与，应助指数 +1
mjlyxm(金币+1): 感谢交流，非常期待您对工艺技术版更多的关注。O(∩_∩)O~ 2012-02-20 18:23:09
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3楼2012-02-19 23:59:39
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kebaoyuan

禁言 (小有名气)
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4楼2012-02-20 00:01:22
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