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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 合成表征 » 纳米颗粒包硅需要避光和氮气保护吗？
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zhanghai426

铜虫 (小有名气)

[求助] 纳米颗粒包硅需要避光和氮气保护吗？

纳米颗粒用TEOS包硅是否需要避光和氮气保护？整个反应过程是否需要不断的搅拌？APTES修饰氨基及FITC荧光标记又如何呢？stober法和反相微乳液法在这方面是否有所区别？求高手解惑！！！
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1楼 2011-12-12 23:53:16
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zhanghai426

铜虫 (小有名气)
引用回帖:
楼: Originally posted by dut_ameng at 2011-12-13 10:31:06:
不需要避光和氮气保护，一般是要搅拌的。
stober法一般只能用于包覆亲水颗粒，而反相微乳液法则可用于包覆疏水颗粒。

也就是两种方法包硅都不需要避光和氮气保护是吧？那用APTES修饰氨基时呢，我看文献说法不一。
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3楼2011-12-13 12:05:56
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dut_ameng

专家顾问 (知名作家)

一只小小小小鸟

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
zhanghai426(金币+1): ★有帮助 2011-12-28 15:11:37
不需要避光和氮气保护，一般是要搅拌的。
stober法一般只能用于包覆亲水颗粒，而反相微乳液法则可用于包覆疏水颗粒。
赞一下 回复此楼
天性驽钝，唯勤学以补之。。。
2楼2011-12-13 10:31:06
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