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zhanghai426

铜虫 (小有名气)

[求助] 纳米颗粒包硅需要避光和氮气保护吗?

纳米颗粒用TEOS包硅是否需要避光和氮气保护?整个反应过程是否需要不断的搅拌?APTES修饰氨基及FITC荧光标记又如何呢?stober法和反相微乳液法在这方面是否有所区别?求高手解惑!!!
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dut_ameng

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【答案】应助回帖

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zhanghai426(金币+1): 有帮助 2011-12-28 15:11:37
不需要避光和氮气保护,一般是要搅拌的。
stober法一般只能用于包覆亲水颗粒,而反相微乳液法则可用于包覆疏水颗粒。
天性驽钝,唯勤学以补之。。。
2楼2011-12-13 10:31:06
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zhanghai426

铜虫 (小有名气)

引用回帖:
: Originally posted by dut_ameng at 2011-12-13 10:31:06:
不需要避光和氮气保护,一般是要搅拌的。
stober法一般只能用于包覆亲水颗粒,而反相微乳液法则可用于包覆疏水颗粒。

也就是两种方法包硅都不需要避光和氮气保护是吧?那用APTES修饰氨基时呢,我看文献说法不一。
3楼2011-12-13 12:05:56
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