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想要得到平滑一些的DOS
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| 各位，想要把dos做的平滑些，我用做金属表面吸附有机分子体系，ISMEAR=-5，NEDOS=1001，出来的峰比较尖，很是难看，请教大家有什么好办法把它搞得平滑些，有人说NEDOS取大些，有人说取小些，还有人说ISMEAR取1或者0，那种方法好一些，请各位赐教！多谢了！ |
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【答案】应助回帖
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uuv2010(金币+1): 多谢提示 2011-11-18 23:07:54
uuv2010(金币+1): 多谢提示 2011-11-18 23:07:54
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Mind: Avoid using ISMEAR>0 for semiconductors and insulators, since this often leads to incorrect results (The occupancies of some states might be larger or smaller than 1). For insulators use ISMEAR=0 or ISMEAR=-5. The Gaussian smearing (GS) method leads in most cases also to reasonable results. Within this method it is necessary to extrapolate from finite SIGMA results to SIGMA=0 results. You can find an extra line in the OUTCAR file ’energy( SIGMA → 0)’ giving the extrapolated results. Large SIGMA values lead to a similar error as the MP scheme, but in contrast to the MP scheme one can not determine, how large the error due to the smearing is with systematically reducing SIGMA. Therefore the method of MP is more convenient than the GS method. In addition, in the GS method forces and the stress tensor are consistent with the free energy and not the energy for SIGMA → 0. Overall the Methfessel-Paxton is easier to use for metallic systems. |
7楼2011-11-18 16:45:38
likai0106
金虫 (小有名气)
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2楼2011-11-18 13:51:41
3楼2011-11-18 14:29:10
4楼2011-11-18 14:39:39
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