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jacklu木虫 (正式写手)
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[交流]
如何测定焙烧后的载体的表面羟基含量
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如何测定焙烧后的载体(如SiO2)的表面羟基含量? 看过一篇文献,说用CH3MgI与各种温度下焙烧后的载体的表面羟基反应,在N2气保护下进行,测定生成的CH4含量,便可倒推出表面羟基的含量,而且还给出了Davision公司955号硅胶在各种温度下的含量。收集甲烷的过程中涉及经过液氮、干冰等以除去其他气体,觉得这种方法很麻烦,而且经过的步骤这么多,能不能精确测定都不知道,另外碘的格氏试剂多贵啊。 我想问的是有没有其他较简单的或较精确的方法(物理方法)测量表面羟基的含量,小弟初入此道,望达人指教。 [ Last edited by daiqiguang on 2007-5-13 at 16:48 ] |
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24楼2007-01-19 16:08:26
zhangwengui330
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- 管辖: 催化
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rabbit7708(金币+3):呵,就我所看的现在大多数文献里表面羟基位的测定基本是用红外方法!一直没敢尝试。因为影响因素太多了,对操作要求很严格,呵,做出来的数据也不一定可靠!不过用来定性比较问题应该不大!我的理解!:)
rabbit7708(金币+3):呵,就我所看的现在大多数文献里表面羟基位的测定基本是用红外方法!一直没敢尝试。因为影响因素太多了,对操作要求很严格,呵,做出来的数据也不一定可靠!不过用来定性比较问题应该不大!我的理解!:)
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楼主所描述的方法属化学滴定方法中的气相滴定的,说到物理方法,可以推荐红外,呵呵但是也有点麻烦 一个称量的精确性要上去,二要保证相干干扰的剔除,三是最重要也是最麻烦的一个,作校正曲线,不知道搂有标准样品作参比不??还有红外软件是否配有积分功能. 不过我相信这些问题只要操作得当,购得表样不难实现. [ Last edited by rabbit7708 on 2007-1-2 at 10:49 ] |
2楼2007-01-02 00:42:41

3楼2007-01-02 01:04:02

4楼2007-01-02 01:05:26













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