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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 综合其他 » Si片呈亲水性
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370752360

木虫 (正式写手)

[求助] Si片呈亲水性

请问怎样对硅片表面进行活化，使它生成硅氧键，呈亲水性？
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1楼 2011-10-07 21:01:28
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370752360

木虫 (正式写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by vvxd at 2011-10-07 22:55:39:
先HF
再 双氧水+ 硫酸
再去离子水

请问氢氟酸的浓度是多少，要浸泡多久呢！
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3楼2011-10-08 18:51:05
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vvxd

铜虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★
zhangwj(金币+1): thanks 2011-10-08 00:56:33
370752360(金币+5): 谢谢 2011-10-08 18:48:39
先HF
再 双氧水+ 硫酸
再去离子水
赞一下(1人) 回复此楼
dsd
2楼2011-10-07 22:55:39
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vvxd

铜虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★
yingli09(金币+1): 2011-10-10 15:55:11
5%吧，有篇文献专门介绍Si表面的处理的
你是做电化学拉曼光谱的？？
SERS？
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dsd
4楼2011-10-09 00:19:37
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vvxd

铜虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★
lchpy(金币+1): 我也用这个. 哈 2011-10-10 10:03:59
370752360(金币+5): 谢谢 2011-10-10 12:30:18
这个方法也行
1 丙酮 超声10mim
2 乙醇 超声 5min
3 RCA溶液1:1:5(v/v/v)NH3/H2O2/H2O  ， 80°C ，1 小时
处理完也是亲水的
每步都要用去离子水冲洗，最后储存的时候放在去离子水里储存备用！
赞一下(1人) 回复此楼
dsd
5楼2011-10-09 00:25:54
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