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恒电流沉积(计时电位法)的参数设置
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dcm20102
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虫号: 747088
注册: 2009-04-13
专业: 催化化学
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]
恒电流沉积(计时电位法)的参数设置
我要在Cu2SO4溶液中电沉积Cu2O, 恒电位沉积电位为-0.45V vs SCE,用的是CHI760D工作站,不知道如何设置参数,如下设置有没有问题?能否给个建议,越详细越好~~另外我因为要控制沉积的厚度,能否通过沉积时间控制沉积电量呢?
阴极电流:0.00018A
阳极电流:0
高电位限制: 1
High E hold time: 0
低电位限制:-1
Low E hold time: 0
阴极时间(秒):11700
阳极时间(秒):0
起始极性: 阴极
数据存贮间隔: 0.1
段数:1
电流极性切换优先:时间
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1楼
2011-08-16 10:01:40
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sunkaoyan
木虫
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注册: 2007-10-27
性别: GG
专业: 无机非金属类光电信息与功
交流电沉积啊,急347299158
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10楼
2012-05-16 19:29:37
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yanflower7133
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虫号: 786815
注册: 2009-06-04
性别: GG
专业: 污染控制化学
恒电位沉积电位为-0.45V vs SCE,你是想恒电流沉积还是恒电位沉积啊?
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忘了昨天,从今天开始,努力!
2楼
2011-08-16 15:49:35
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jttk
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注册: 2009-12-14
性别: GG
专业: 半导体晶体与薄膜材料
【答案】应助回帖
dcm20102(金币+3): 2011-08-17 13:23:50
沉积单质铜的话是可以用时间来控制电量进而控制沉积厚度的。
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3楼
2011-08-16 18:54:53
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wenchao58
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在线: 13.7小时
虫号: 1149957
注册: 2010-11-18
性别: GG
专业: 电化学
我也在做这方面的工作,求解!!
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4楼
2011-08-17 11:24:18
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