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恒电流沉积(计时电位法)的参数设置
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我要在Cu2SO4溶液中电沉积Cu2O, 恒电位沉积电位为-0.45V vs SCE,用的是CHI760D工作站,不知道如何设置参数,如下设置有没有问题?能否给个建议,越详细越好~~另外我因为要控制沉积的厚度,能否通过沉积时间控制沉积电量呢? 阴极电流:0.00018A 阳极电流:0 高电位限制: 1 High E hold time: 0 低电位限制:-1 Low E hold time: 0 阴极时间(秒):11700 阳极时间(秒):0 起始极性: 阴极 数据存贮间隔: 0.1 段数:1 电流极性切换优先:时间 |
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4楼2011-08-17 11:24:18
yanflower7133
木虫 (职业作家)
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2楼2011-08-16 15:49:35
jttk
新虫 (小有名气)
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- 性别: GG
- 专业: 半导体晶体与薄膜材料
3楼2011-08-16 18:54:53
【答案】应助回帖
dcm20102(金币+10): 2011-08-17 13:24:01
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阴极电流:0.00018A 阳极电流:0 高电位限制: 1 High E hold time: 0 低电位限制:-1 Low E hold time: 0 阴极时间(秒):11700 阳极时间(秒):0 起始极性: 阴极 数据存贮间隔: 0.1 段数:1 电流极性切换优先:时间 你的沉积电流需要通过电流时间曲线中找出你需要的电流大小,你自己先测一下电流时间曲线,然后选择,一般是跟稳定了的电流一样大就行,这个电流是阴极电流,阳极的不用管。阴极时间我们沉积的时候是一个半小时,数据存储间隔0.225s,别的没什么了吧,你试一下,俺们不是你这个工作站。太详细的不好说。 |
5楼2011-08-17 12:29:40













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