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gl_zju

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[求助] 电子束蒸发镀膜和磁控溅射镀膜所得薄膜有什么区别？

电子束蒸发镀膜和磁控溅射镀膜所得薄膜有什么区别？两者镀膜质量有差异吗？

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1楼 2011-07-23 21:16:36

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pengmingfa0725

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gl_zju: 回帖置顶 2012-04-05 08:26:18

E-beam和Sputter的差别如下：
1.两者原理不同，如2楼所说的
2.膜的粘附性及结合的效果也不同，E-beam镀膜的粘附性教差，但是膜的均匀性好；Sputter的镀膜溅射能量大，和基底的粘附性也好，但是膜会有颗粒也就是均匀性稍差。
3.E-Beam通常配备晶振片，对于已经校准的材料，10nm以下控制效果好，相反Sputter溅射出来的膜会有颗粒，10nm的厚度很难达到精准可控。
4.实用的材料不同，磁控溅射有射频电源，可以做绝缘材料，也可以做金属；但是E-beam只能蒸镀金属。