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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 电子束蒸发镀膜和磁控溅射镀膜所得薄膜有什么区别？
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gl_zju

金虫 (小有名气)

[求助] 电子束蒸发镀膜和磁控溅射镀膜所得薄膜有什么区别？

电子束蒸发镀膜和磁控溅射镀膜所得薄膜有什么区别？两者镀膜质量有差异吗？
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纳米材料（一维硅纳米材料）交流学习
1楼2011-07-23 21:16:36
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pengmingfa0725

木虫 (小有名气)
gl_zju: 回帖置顶 2012-04-05 08:26:18
E-beam和Sputter的差别如下：
1.两者原理不同，如2楼所说的
2.膜的粘附性及结合的效果也不同，E-beam镀膜的粘附性教差，但是膜的均匀性好；Sputter的镀膜溅射能量大，和基底的粘附性也好，但是膜会有颗粒也就是均匀性稍差。
3.E-Beam通常配备晶振片，对于已经校准的材料，10nm以下控制效果好，相反Sputter溅射出来的膜会有颗粒，10nm的厚度很难达到精准可控。
4.实用的材料不同，磁控溅射有射频电源，可以做绝缘材料，也可以做金属；但是E-beam只能蒸镀金属。
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12楼2012-04-04 16:23:26
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henryfrank

木虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

gl_zju(金币+3): 2011-07-24 23:53:42
我一直用这两种机器镀膜，也曾经思考这两种机器到底有什么不同，其实吧它们的适用范围不一样，有的材料不能用电子书蒸发，比如说CoSiB，镀出来成分偏析很大。对于同一种都能镀的材料，我觉得电子束蒸发要好一些，薄膜缺陷较少，磁控溅射溅射出来的粒子带电荷比较多，电子束蒸发要好一些。大家有什么想法可以讨论啊
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潜心科研
2楼2011-07-24 01:16:31
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wwangwanhu

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

gl_zju(金币+2): 2011-07-24 23:53:46
说明书上说磁控溅射可以镀非金属材料。
但现在还没有使用过非金属材料
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3楼2011-07-24 16:15:14
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sensing5668

木虫 (小有名气)
MS做出来的薄膜一般致密性更好，与基片结合也更紧密些；EB适用材料的范围较广
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4楼2011-07-25 09:01:51
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