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如何控制共沉淀法制备条件降低TPR还原峰温度
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vincent2376
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如何控制共沉淀法制备条件降低TPR还原峰温度
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共沉淀法制备的不同条件如PH、温度,老化时间,焙烧温度对催化剂的TPR还原峰的温度有着如何影响?
我用共沉淀法制备的样品TPR的峰总是要比商用的催化剂的TPR还原峰温度高出70~80度。如何通过改变制备条件来降低TPR的最高峰温度呢?
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1楼
2011-06-23 21:59:41
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焙烧温度提高100度,时间长一点
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2011-06-24 15:20:24
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共沉淀之后静置老化,加快搅拌速度。
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每天进步一点点。
2楼
2011-06-24 10:36:56
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vincent2376
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at 2011-06-24 10:36:56:
共沉淀之后静置老化,加快搅拌速度。
都说了静置老化了,为什么还加大搅拌速度,矛盾么?
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4楼
2011-06-24 17:42:17
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vincent2376
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alixing
at 2011-06-24 15:20:24:
焙烧温度提高100度,时间长一点
为什么?文献依据么
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5楼
2011-06-24 17:42:36
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