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wprison

金虫 (正式写手)

[求助] e-beam lithography设备

最近看文献中会经常用到e-beam lithograph技术来在Si片pattern
其中会用到e-beam exposure， 请问大家这一步用什么样的设备来实现呢 用传统的SEM的电子束可以吗？

有个疑问就是如果需要e-beam exposure某些区域获得特殊的形状 那最初用SEM在扫描整体获得图像时 那样品不是已经都被e-beam照射过了吗？

谢谢大家！！！
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1楼 2011-06-03 16:44:51
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hugaijuan

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by xjajx at 2011-06-03 20:05:54
e-beam只是用来制备一些pattern，然后再往上面转移样品，然后再用有机物覆盖，然后再刻饰出电极。ebeam光刻前，还需要很多步骤的，比如用东西修饰Si等步骤，工序有好多步，不是用传统的SEM来刻饰。

您好，我最近在做电子束直写，在石墨烯上制备电极，由于我采用的是机械剥离的石墨烯，大概只有20微米，且位置不确定，目前没有找到合适的做标记的手法，故而，电子束直写一直无法精确定位，看到您的回复，很想了解，您是否有做作电子束直写制备电极的相关工作？对此，能不能呢过给一些建议，非常感谢
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7楼2014-06-19 17:55:15
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xjajx

至尊木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

wprison(金币+3): 谢谢交流 2011-06-06 17:27:30
e-beam只是用来制备一些pattern，然后再往上面转移样品，然后再用有机物覆盖，然后再刻饰出电极。ebeam光刻前，还需要很多步骤的，比如用东西修饰Si等步骤，工序有好多步，不是用传统的SEM来刻饰。
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2楼2011-06-03 20:05:54
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terav

铜虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

★
xjajx(金币+1): 2011-06-04 17:20:16
wprison(金币+5): 谢谢交流，第二个问题还是不太明白 能再详细点吗 那SEM获得图像时的整体曝光不会影响后面的pattern吗？ 2011-06-06 17:29:42
引用回帖:
Originally posted by wprison at 2011-06-03 16:44:51:
最近看文献中会经常用到e-beam lithograph技术来在Si片pattern
其中会用到e-beam exposure， 请问大家这一步用什么样的设备来实现呢 用传统的SEM的电子束可以吗？

有个疑问就是如果需要e-beam exposure某些区 ...

做这个的机器一般叫ebeam writer，电子束曝光机。国内很多的大学研究所都有，你自己随便google一下就知道了。
1）你的第一个问题，可以用SEM的机器来做吗？答案是可以的，不过需要额外装第三方的软件来控制电子束。
2）你的第二个问题，就是用SEM来看的时候是不是就已经曝光了。对，SEM是电子束扫描视场里的每一行然后生成图像。但是，光刻模式并不是每一行都扫描，而是利用软件来控制哪里扫描哪里不扫描，相应的也就形成了图形。
具体的可以google一些电子束曝光的基本原理，流程看看。
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3楼2011-06-04 00:49:33
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terav

铜虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

★
yingli09(金币+1): 谢谢参与交流！ 2011-06-12 16:56:49
这么说吧，写pattern的时候就不会整体曝光了。pattern的形状由你之前设计决定。机器根据你的设计文件把你的pattern转移到光刻胶上。

Lithography和SEM的两种方式是完全不同的模式，根本就不会在一个wafer先做这个再做那个。所以，基本上不存在先做哪个对另一个的影响。
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4楼2011-06-08 01:08:42
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