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e-beam lithography设备
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最近看文献中会经常用到e-beam lithograph技术来在Si片pattern 其中会用到e-beam exposure， 请问大家这一步用什么样的设备来实现呢 用传统的SEM的电子束可以吗？ 有个疑问就是如果需要e-beam exposure某些区域获得特殊的形状 那最初用SEM在扫描整体获得图像时 那样品不是已经都被e-beam照射过了吗？ 谢谢大家！！！ |
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7楼2014-06-19 17:55:15
xjajx
至尊木虫 (著名写手)
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2楼2011-06-03 20:05:54
【答案】应助回帖
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xjajx(金币+1): 2011-06-04 17:20:16
wprison(金币+5): 谢谢交流，第二个问题还是不太明白 能再详细点吗 那SEM获得图像时的整体曝光不会影响后面的pattern吗？ 2011-06-06 17:29:42
xjajx(金币+1): 2011-06-04 17:20:16
wprison(金币+5): 谢谢交流，第二个问题还是不太明白 能再详细点吗 那SEM获得图像时的整体曝光不会影响后面的pattern吗？ 2011-06-06 17:29:42
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做这个的机器一般叫ebeam writer，电子束曝光机。国内很多的大学研究所都有，你自己随便google一下就知道了。 1）你的第一个问题，可以用SEM的机器来做吗？答案是可以的，不过需要额外装第三方的软件来控制电子束。 2）你的第二个问题，就是用SEM来看的时候是不是就已经曝光了。对，SEM是电子束扫描视场里的每一行然后生成图像。但是，光刻模式并不是每一行都扫描，而是利用软件来控制哪里扫描哪里不扫描，相应的也就形成了图形。 具体的可以google一些电子束曝光的基本原理，流程看看。 |
3楼2011-06-04 00:49:33
4楼2011-06-08 01:08:42
