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[求助]
e-beam lithography设备
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最近看文献中会经常用到e-beam lithograph技术来在Si片pattern 其中会用到e-beam exposure， 请问大家这一步用什么样的设备来实现呢 用传统的SEM的电子束可以吗？ 有个疑问就是如果需要e-beam exposure某些区域获得特殊的形状 那最初用SEM在扫描整体获得图像时 那样品不是已经都被e-beam照射过了吗？ 谢谢大家！！！ |
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