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e-beam lithography设备
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最近看文献中会经常用到e-beam lithograph技术来在Si片pattern 其中会用到e-beam exposure， 请问大家这一步用什么样的设备来实现呢 用传统的SEM的电子束可以吗？ 有个疑问就是如果需要e-beam exposure某些区域获得特殊的形状 那最初用SEM在扫描整体获得图像时 那样品不是已经都被e-beam照射过了吗？ 谢谢大家！！！ |
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4楼2011-06-08 01:08:42
xjajx
至尊木虫 (著名写手)
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2楼2011-06-03 20:05:54
【答案】应助回帖
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xjajx(金币+1): 2011-06-04 17:20:16
wprison(金币+5): 谢谢交流，第二个问题还是不太明白 能再详细点吗 那SEM获得图像时的整体曝光不会影响后面的pattern吗？ 2011-06-06 17:29:42
xjajx(金币+1): 2011-06-04 17:20:16
wprison(金币+5): 谢谢交流，第二个问题还是不太明白 能再详细点吗 那SEM获得图像时的整体曝光不会影响后面的pattern吗？ 2011-06-06 17:29:42
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做这个的机器一般叫ebeam writer，电子束曝光机。国内很多的大学研究所都有，你自己随便google一下就知道了。 1）你的第一个问题，可以用SEM的机器来做吗？答案是可以的，不过需要额外装第三方的软件来控制电子束。 2）你的第二个问题，就是用SEM来看的时候是不是就已经曝光了。对，SEM是电子束扫描视场里的每一行然后生成图像。但是，光刻模式并不是每一行都扫描，而是利用软件来控制哪里扫描哪里不扫描，相应的也就形成了图形。 具体的可以google一些电子束曝光的基本原理，流程看看。 |
3楼2011-06-04 00:49:33
apolloljy
银虫 (小有名气)
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【答案】应助回帖
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yingli09(金币+1): 谢谢参与交流！ 2011-06-12 16:57:01
yingli09(金币+1): 谢谢参与交流！ 2011-06-12 16:57:01
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我回答一下第二个和第三个问题吧 使用常规商用电子显微镜也可以实现电子束曝光，但是需要在原有电镜基础上添加一些组件才可以。国内外在上个世纪70年代开始就有人研究了，设备好的话现在也可以达到和商用电子束曝光系统差不多的精度。 正常说来在曝光系统中是有一个工件台的，你所要曝光的样品的位置是精确得知的，此外在样品上还需预先设置好几个标记，这几个标记上的胶就是用来牺牲的，通过这几个标记定位了之后，电子束就只在需要曝光的时候进行对样品的扫描，否则可以控制其不进行扫描，这样就不会造成对样品的破坏了。 |
5楼2011-06-11 16:09:40