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宏hong

木虫 (正式写手)

[求助] MS中Castep,计算绝缘体的一些设置问题

目前,我用Castep优化绝缘体元胞bulk,在electronic/more/scf 设置页中,有一个选项,fix occupancy。我查看了帮助文件,当只有计算的是绝缘体或闭合壳层体系时,这个可以选上。因此我对这个测试了一下,当不勾选这项时,计算的带隙是1.37ev,表面为绝缘体,但是我勾选了这项时,反而没有带隙了,感觉很奇怪。
  
请问这个怎么解释?这个选项的意义是什么?
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x163_yu

银虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★
宏hong(金币+5): 2011-06-04 09:57:11
zzy870720z(金币+2): 谢谢指教 2011-06-04 14:22:02
gzqdyouxia(金币+2, 1ST强帖+1): 谢谢详细指教! 2011-08-13 10:49:28
引用回帖:
Originally posted by 宏hong at 2011-05-31 10:05:53:
目前,我用Castep优化绝缘体元胞bulk,在electronic/more/scf 设置页中,有一个选项,fix occupancy。我查看了帮助文件,当只有计算的是绝缘体或闭合壳层体系时,这个可以选上。因此我对这个测试了一下,当不勾选 ...

我先纠正一下:带隙宽度大于3ev时为绝缘体,大于等于1小于3时为半导体,小于1时为导体。
    fix occupancy 的应用要结合Setup-metal,当选择metal时意味着计算的物质是导体,此时就不能选择fix occupancy ,可以对空带进行设置,因为若是计算的材料是导体的话,在计算过程中计算机会在费米能级附近的计算更加细致,或者说是进行更复杂的计算,此时修改一定的空带是为了使计算更准确或提高计算速度。
    当不选择metal时 fix occupancy  就可以选择。根据我的经验如果计算的带隙宽为1.37ev最好在Setup-metal 选择上此项。
2楼2011-06-03 23:03:55
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zdsk

木虫 (正式写手)

好帖,回答的好
3楼2011-08-12 19:39:12
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