| 查看: 647 | 回复: 1 | |||
380677864木虫 (正式写手)
|
[求助]
做等离子体物理的进
|
|
我的实验课题是PECVD技术制备碳纳米管。在实验中,采用氢气、氮气混合气体的等离子体(射偏电源激发)刻蚀镀在硅基底上的镍薄膜,使镍薄膜裂解为纳米颗粒。以下是我不明白的几个问题,想向您求助。 1.在等离子体中主要存在的氢气、氮气的分子,还是氮氢自由基与氢离子、电子?他们哪个对刻蚀起主要作用?具体是怎么作用的啊? 2.刻蚀过程是单纯的物理溅射还是离子增强的等离子体刻蚀? 3.如何分析各种成分的刻蚀速率?能否套用氟刻蚀硅的模式,离子的质量与离子能量决定刻蚀速率? |
» 猜你喜欢
调剂推荐
已经有5人回复
中国科学院深圳先进技术研究院-光纤传感课题组招生-中国科学院大学、深圳理工大学联培
已经有4人回复
总分322求生物学/生化与分子/生物信息学相关调剂
已经有5人回复
0703化学338求调剂!
已经有3人回复
284求调剂
已经有7人回复
271求调剂
已经有6人回复
312求调剂
已经有9人回复
352求调剂
已经有4人回复
085602化学工程求调剂。
已经有3人回复
085600材料与化工306
已经有6人回复
» 本主题相关商家推荐: (我也要在这里推广)
» 本主题相关价值贴推荐,对您同样有帮助:
【课件】等离子体概述及系列物理实验
已经有71人回复
低温等离子体的温度
已经有5人回复
【交流】等离子体物理或者做射频源的帮我看看 等离子体不会聚
已经有4人回复
【前沿】德国在实验室制造出黑洞等离子体
已经有4人回复
【交流】有关等离子体的概念
已经有13人回复
【前沿】《新物理学杂志》:德国开发出等离子体快速消毒仪
已经有13人回复

2楼2011-04-18 23:21:20













回复此楼
