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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术讨论 » 【请教】如何去除溶剂对量子点发射峰的影响
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ling9802

金虫 (正式写手)

[交流] 【请教】如何去除溶剂对量子点发射峰的影响

试了一下环己烷在任何波长（240-330nm）激发在370纳米左右都有发射峰出现，如果将量子点分散在环己烷中测其荧光性质，该如何去除溶剂的影响呢？
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1楼 2011-03-24 11:09:22
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ashui001

木虫 (著名写手)
ling9802(金币+1): 2011-03-24 16:30:17
引用回帖:
Originally posted by ling9802 at 2011-03-24 13:26:39:
可空扫时溶剂的发射峰强度要比分散有量子点的发射峰强度高，一减的话就要出负数啦？！

你做的什么量子点，发射峰是多少？
可以尝试用400 nm的光激发，这样也能除去背景
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5楼2011-03-24 14:17:07
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ashui001

木虫 (著名写手)
★ ★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
nuaajsh(金币+1): 鼓励交流 2011-06-26 22:44:20
可以先扫描空白溶剂的荧光谱，然后软件上扣除溶剂背景荧光
赞一下(2人) 回复此楼
2楼2011-03-24 11:48:20
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ling9802

金虫 (正式写手)
引用回帖:
Originally posted by ashui001 at 2011-03-24 11:48:20:
可以先扫描空白溶剂的荧光谱，然后软件上扣除溶剂背景荧光

可空扫时溶剂的发射峰强度要比分散有量子点的发射峰强度高，一减的话就要出负数啦？！
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3楼2011-03-24 13:26:39
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donkeypku

至尊木虫 (著名写手)
★
ling9802(金币+1):谢谢参与
引用回帖:
Originally posted by ling9802 at 2011-03-24 13:26:39:
可空扫时溶剂的发射峰强度要比分散有量子点的发射峰强度高，一减的话就要出负数啦？！

乘个系数减呢？可以origin处理，直到恰好扣除为止
赞一下(1人) 回复此楼
4楼2011-03-24 14:11:21
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