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【请教】如何去除溶剂对量子点发射峰的影响
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ling9802
金虫
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[交流]
【请教】如何去除溶剂对量子点发射峰的影响
试了一下环己烷在任何波长(240-330nm)激发在370纳米左右都有发射峰出现,如果将量子点分散在环己烷中测其荧光性质,该如何去除溶剂的影响呢?
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2011-03-24 11:09:22
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ashui001
木虫
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小木虫(金币
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):给个红包,谢谢回帖交流
nuaajsh(金币+1): 鼓励交流 2011-06-26 22:44:20
可以先扫描空白溶剂的荧光谱,然后软件上扣除溶剂背景荧光
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2楼
2011-03-24 11:48:20
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ling9802
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Originally posted by
ashui001
at 2011-03-24 11:48:20:
可以先扫描空白溶剂的荧光谱,然后软件上扣除溶剂背景荧光
可空扫时溶剂的发射峰强度要比分散有量子点的发射峰强度高,一减的话就要出负数啦?!
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3楼
2011-03-24 13:26:39
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donkeypku
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):谢谢参与
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Originally posted by
ling9802
at 2011-03-24 13:26:39:
可空扫时溶剂的发射峰强度要比分散有量子点的发射峰强度高,一减的话就要出负数啦?!
乘个系数减呢?可以origin处理,直到恰好扣除为止
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4楼
2011-03-24 14:11:21
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ashui001
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ling9802(金币+1): 2011-03-24 16:30:17
引用回帖:
Originally posted by
ling9802
at 2011-03-24 13:26:39:
可空扫时溶剂的发射峰强度要比分散有量子点的发射峰强度高,一减的话就要出负数啦?!
你做的什么量子点,发射峰是多少?
可以尝试用400 nm的光激发,这样也能除去背景
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5楼
2011-03-24 14:17:07
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