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[交流]
【交流】关于分子印迹模板泄露问题 已有2人参与
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各位分子印迹同行们，想跟大家讨论一下关于分子印迹模板泄露的问题，小弟一直不明白。 1. 为什么用虚拟模板能解决模板泄露？原理是什么呢？ 2. 虚拟模板不会影响其后期选择性？ 3. 印迹聚合物一般都是去除了模板分子之后再用于分离富集，既然洗脱了怎么会对吸附测定带来干扰？ 希望有朋友一起出来交流~ |
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jack2070
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