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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 分析 » 【交流】关于分子印迹模板泄露问题
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dolokey

木虫 (小有名气)

[交流] 【交流】关于分子印迹模板泄露问题 已有2人参与

各位分子印迹同行们，想跟大家讨论一下关于分子印迹模板泄露的问题，小弟一直不明白。
1. 为什么用虚拟模板能解决模板泄露？原理是什么呢？
2. 虚拟模板不会影响其后期选择性？
3. 印迹聚合物一般都是去除了模板分子之后再用于分离富集，既然洗脱了怎么会对吸附测定带来干扰？

希望有朋友一起出来交流~
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努力做到一切心中有数，问心无愧！
1楼 2011-03-20 17:11:04
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jack2070

木虫 (著名写手)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
担心模板洗不干净（通常不可能绝对洗干净）
用虚拟模板分子，再用制备的分子印记去检测，就不会造成干扰，....
不知道你明不明白，感觉不难理解的....或者说不用想就能理解的...
赞一下(1人) 回复此楼
平生之志，唯求温饱！
2楼2011-03-20 20:20:29
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dolokey

木虫 (小有名气)
引用回帖:
Originally posted by jack2070 at 2011-03-20 20:20:29:
担心模板洗不干净（通常不可能绝对洗干净）
用虚拟模板分子，再用制备的分子印记去检测，就不会造成干扰，....
不知道你明不明白，感觉不难理解的....或者说不用想就能理解的...

嗯~您好！ 您的意思是
        如果带来干扰就是由于残余的模板被洗脱下来 从而导致测试的误差吧
赞一下 回复此楼
努力做到一切心中有数，问心无愧！
3楼2011-03-20 21:29:17
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