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helloyc

铁虫 (小有名气)


[交流] 【求助】铜表面腐蚀 观察晶粒

铜50 nm colloidal silica 抛光后
用氨水(50ml)+双氧水(10ml)20秒钟腐蚀
然后用SEM观察晶粒,如下图

可以隐约看到晶界,怎么样才能让晶界更清楚啊

其他地方好多杂点,不知道怎么去掉这些杂点

谢谢大家!



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helloyc

铁虫 (小有名气)


引用回帖:
Originally posted by Rallon at 2011-03-19 16:05:09:
感觉是没有完全腐蚀出来,杂质点主要是抛光粉或者是抛光布抛光后那种细小的杂质,我昨天抛黄铜就是这样!抛完后要用水急冲样品表面一会,然后用酒精冲洗一下吹干,这样效果会好一些!!

我也感觉好像没有完全腐蚀出来

是不是腐蚀时间要长一点啊?

现在用的是20秒钟
5楼2011-03-20 07:28:55
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helloyc

铁虫 (小有名气)


引用回帖:
Originally posted by zgw318 at 2011-03-19 19:55:22:
杂质点主要是抛光粉或者是抛光布抛光后那种细小的杂质,反正是抛光引起的,你腐蚀轻点试下。

谢谢啊

腐蚀轻点的话,是不是晶界就难得看到了啊 赫赫
6楼2011-03-20 07:29:42
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helloyc

铁虫 (小有名气)


引用回帖:
Originally posted by wcjhit at 2011-03-20 02:57:18:
如果是紫铜的话 可以尝试用硝酸铁+酒精进行腐蚀 效果也许好些啊

你说的紫铜 就是纯铜吧?

能不能告诉我 硝酸铁+酒精 的浓度 和腐蚀时间啊?

谢谢啊!
7楼2011-03-20 07:31:57
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helloyc

铁虫 (小有名气)


引用回帖:
Originally posted by liuniba at 2011-03-20 10:43:02:
我觉得腐蚀出来了,主要是SEM效果不好!

谢谢啊

你是说SEM 没有拍好?
10楼2011-03-20 11:30:00
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helloyc

铁虫 (小有名气)


谢谢大家

今天终于得到好的腐蚀照片了!

还是用的氨水(50ml) 和 双氧水(30% solution5 ml) 做腐蚀液 腐蚀时间10秒钟

腐蚀前用50 nm 50 nm colloidal silica 抛光后,用水冲洗,酒精清洗,高压空气冲洗

腐蚀后,马上用清水清洗,酒精清洗,高压空气冲洗 这样可以防止那些 小颗粒对SEM照片的影响

最后SEM 低倍 拍 腐蚀相

谢谢大家关注!
24楼2011-03-24 11:42:22
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