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【求助】铜表面腐蚀 观察晶粒
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helloyc
铁虫
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[交流]
【求助】铜表面腐蚀 观察晶粒
铜50 nm colloidal silica 抛光后
用氨水(50ml)+双氧水(10ml)20秒钟腐蚀
然后用SEM观察晶粒,如下图
可以隐约看到晶界,怎么样才能让晶界更清楚啊
其他地方好多杂点,不知道怎么去掉这些杂点
谢谢大家!
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2011-03-19 11:47:04
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Originally posted by
Rallon
at 2011-03-19 16:05:09:
感觉是没有完全腐蚀出来,杂质点主要是抛光粉或者是抛光布抛光后那种细小的杂质,我昨天抛黄铜就是这样!抛完后要用水急冲样品表面一会,然后用酒精冲洗一下吹干,这样效果会好一些!!
我也感觉好像没有完全腐蚀出来
是不是腐蚀时间要长一点啊?
现在用的是20秒钟
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5楼
2011-03-20 07:28:55
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Originally posted by
zgw318
at 2011-03-19 19:55:22:
杂质点主要是抛光粉或者是抛光布抛光后那种细小的杂质,反正是抛光引起的,你腐蚀轻点试下。
谢谢啊
腐蚀轻点的话,是不是晶界就难得看到了啊 赫赫
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6楼
2011-03-20 07:29:42
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Originally posted by
wcjhit
at 2011-03-20 02:57:18:
如果是紫铜的话 可以尝试用硝酸铁+酒精进行腐蚀 效果也许好些啊
你说的紫铜 就是纯铜吧?
能不能告诉我 硝酸铁+酒精 的浓度 和腐蚀时间啊?
谢谢啊!
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7楼
2011-03-20 07:31:57
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Originally posted by
liuniba
at 2011-03-20 10:43:02:
我觉得腐蚀出来了,主要是SEM效果不好!
谢谢啊
你是说SEM 没有拍好?
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10楼
2011-03-20 11:30:00
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谢谢大家
今天终于得到好的腐蚀照片了!
还是用的氨水(50ml) 和 双氧水(30% solution5 ml) 做腐蚀液 腐蚀时间10秒钟
腐蚀前用50 nm 50 nm colloidal silica 抛光后,用水冲洗,酒精清洗,高压空气冲洗
腐蚀后,马上用清水清洗,酒精清洗,高压空气冲洗 这样可以防止那些 小颗粒对SEM照片的影响
最后SEM 低倍 拍 腐蚀相
谢谢大家关注!
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24楼
2011-03-24 11:42:22
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