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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 【请教】【请教】如何制备超薄SiO2薄膜
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anlerjing

铜虫 (小有名气)

[交流] 【请教】【请教】如何制备超薄SiO2薄膜

【请教】如何制备厚度在3~6nm之间的超薄SiO2薄膜，厚度如何检测？国内哪家单位能做这种超薄SiO2膜。希望大虾能给小弟指条明路，非常感谢！！！
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1楼 2010-12-03 16:21:29
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quanbaogang

木虫 (正式写手)
anlerjing(金币+2):自然氧化层可能就是1~2nm，在生长超薄氧化层前我们会将这层氧化层去掉的 2010-12-04 10:30:02
用氧等离子体轰击估计可以，只是到底有多厚就难表征了。我以前在RIE中用氧等离子体轰击过单晶硅，发现能够使单晶硅表面出现浅蓝色，那就是氧化硅出现的迹象。但是到底有多少厚度没有去测过。其实单晶硅表面也存在很薄的自然氧化层，厚度应该也在纳米量级，这个厚度应该有文献可查。

上面提到的二氧化硅的致密度和表面平整度估计不会很好。
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2楼2010-12-03 19:38:58
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adongs

木虫 (小有名气)
anlerjing(金币+5):是想通过热氧化的方式生长的，但不知具体如何？ 2010-12-05 17:57:09
如果是Si片上的话  热氧化就可以。如果不是的话，用物理沉积也可以，比如说离子束溅射。http://muchong.com/bbs/viewthread.php?tid=2640065
厚度的话，椭圆偏振仪可以测的
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3楼2010-12-05 13:01:14
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