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【分享】DNS开发出32nm半导体清洗技术，通过控制液滴能量减少电路图案损坏
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DNS开发出32nm半导体清洗技术，通过控制液滴能量减少电路图案损坏 2010/11/17 00:00 打印 E-mail  采用此次技术喷射的液滴（以相同打下，沿一定的方向等距离喷射）（点击放大）  采用以前技术喷射的液滴（大小不均，喷射方向散乱，因此液滴分布在拍摄画面的各处）（点击放大） 大日本网屏制造（DNS）开发出了面向32nm以后工艺的“Nanospray Advance”清洗技术。今后将进行面向实用化的验证试验，最早将在2010年内上市配备该技术的清洗装置。 大日本网屏此前销售过半导体工艺用清洗装置“SS-3100”等，这些装置都配备了向晶圆表面喷射液体超微粒子的喷射清洗技术“Nanospray2”。不过，32nm以后的工艺方面，随着工艺的微细化，电路图案的尺寸越来越细，使用以前的技术进行喷射清洗时，电路图案遭到破坏的危险性越来越大。比如，在以前的技术中，液滴的大小、喷射速度及喷射方向等不均匀。因此，为确保清洗能力，需要使液滴的大小和喷射速度的平均值保持在一定值以上，这样就会含有尺寸大且喷射速度高的液滴，从而导致图案的损坏。 对此，DNS在继承Nanospray2技术基本思路的基础上，开发出了分别控制液滴大小、喷射速度及喷射方向的“Nanospray Advance”技术。新开发出了可逐粒喷射大小相同的液滴的喷头，利用该喷头抑制了液滴的尺寸、喷射速度及喷射方向的不均现象。由此，可将液滴能量的不均匀性降至1/100左右，并能够在确保清洗能力的同时抑制对电路图案的损坏。喷头可喷射的液滴量为数千万粒/秒。 “Nanospray Advance”清洗技术将在2010年12月举行的“SEMICON Japan 2010”上展出。另外，在此次的SEMICON Japan上，DNS还将把LED及功率半导体用晶圆清洗装置“CW-1500”作为新产品展示，并参考展出高亮度LED用纳米压印装置“XI-1000”。此外，还预定展出“SU-3100”“FC-3100”“SS-3100”等各种清洗装置、闪光灯热处理装置“LA-3000-F”、涂布显像装置“SOKUDO DUO”以及结晶类太阳能电池PSG膜气相清洗装置“RS-C810A/810L”等。（记者：长广 恭明） ■日文原文 32nm向け半導体洗浄技術をDNSが開発，液滴のエネルギーをそろえて回路パターン倒壊を抑制 |
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