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【求助】作H2-tpr时,样品中含0.2%的Cl离子会不会对TCD起腐蚀作用。
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wudilang666
银虫
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专业: 污染控制化学
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【求助】作H2-tpr时,样品中含0.2%的Cl离子会不会对TCD起腐蚀作用。
作H2-tpr时,样品中含0.2%的Cl离子会不会对TCD起腐蚀作用。如果不会,偶就不想水洗呀,好麻烦呀。。。。若是能,有没有高效的去除Cl离子的方法,高人赐教哦
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1楼
2010-11-03 20:20:32
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jinkai838
木虫
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专业: 计算机科学的基础理论
★
wudilang666(金币
+1
):谢谢参与
没有问题,实验仪器没有那么脆弱!
不洗???
,还是洗洗,更好啊
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斜杠青年
3楼
2010-11-04 00:30:29
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mjqlzl
铁虫
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★
wudilang666(金币
+1
):谢谢参与
影响可以忽略
因为你在做样时TCD是一直在工作状态(温度应该在200左右)~且一直有气体在吹着
基本不会吸附在TCD的热丝上,做完样后再用惰性气体吹一段时间再关机就可以了~~
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2楼
2010-11-03 22:23:35
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banditi
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专业: 化学反应工程
★
wudilang666(金币
+1
):谢谢参与
引用回帖:
Originally posted by
mjqlzl
at 2010-11-03 22:23:35:
影响可以忽略
因为你在做样时TCD是一直在工作状态(温度应该在200左右)~且一直有气体在吹着
基本不会吸附在TCD的热丝上,做完样后再用惰性气体吹一段时间再关机就可以了~~
不错,俺经常这么做。有的时候样品不可以水洗,氯离子也有作用。
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飞雪连天射白鹿
4楼
2010-11-04 08:24:23
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