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lkzmaster木虫 (著名写手)
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【求助】O2-TPD 求助
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| 请教一个问题，我想做O2-TPD，目的是看催化剂氧化物上表面氧和体相氧是否能够脱附，脱附的量是多少，我查文献做O2-TPD 的程序一般是这样的“在He气氛下程序升温至400度保持1h，然后降温至80度注氧1h，然后再在He气氛下程序升温脱附。”问题是，这样做出来的只是80度注氧时在催化剂上形成的氧物种，而不是催化剂本身的氧物种，那么我是否可以仅仅在He气氛下100度干燥后，就直接脱附呢，这样能达到我的目的吗？ |
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2楼2010-10-13 20:52:17
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lkzmaster(金币+1):非常感谢，那如果我氢气再500度还原一小时后，100度注氧1小时，这样后在用He气脱附，那我得到的结果会是个什么结果呢？ 2010-10-15 09:40:56
lkzmaster(金币+3):再次感谢谢谢！ 2010-10-15 09:41:22
lkzmaster(金币+3):再次感谢谢谢！ 2010-10-15 09:41:22
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仅仅在He气氛下100度干燥是不妥当的，焙烧后的催化剂冷却时会吸附包含氧在内的各种杂质（水，实验室气氛等）这些杂质在TP过程脱附出来就会影响检测器的信号。有些孔材料水TP过程中150度还脱不干净，少量有机物要在300度以上才能除去。400度保持1h相当于是洁净表面过程，且只能原位进行，只要样品一接触大气，杂质吸附瞬间完成，到时脱附的就不一定全是氧气了。 当然400度热吹扫清洁这个温度不是绝对的，取决于催化剂稳定性，一般这个温度低于或等于焙烧温度；80度也不是绝对的，通常这个温度在100左右。 [ Last edited by dy322112 on 2010-10-13 at 21:12 ] |
3楼2010-10-13 21:08:35
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4楼2010-10-13 21:43:39
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5楼2010-10-15 09:42:46
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