| 查看: 6470 | 回复: 10 | |||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | |||
darren21金虫 (正式写手)
|
[交流]
【讨论】ICP 和RIE的区别～ 已有1人参与
|
||
|
大家可以畅所欲言 ICP:Inductive Coupled Plasma RIE: Reactive Ion Etching 从设备结构上ICP比RIE多了一个RF，其他机理上的区别大家可以继续讨论！ |
回复此楼» 猜你喜欢
济南大学国家优青课题组 2026 调剂招生来啦
已经有0人回复
-
武汉纺织大学_化学院官方调剂群-院士团队招生-学生自由度高发展好-欢迎各位同学
已经有0人回复
-
金属材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有92人回复
-
西华大学 化学 调剂有名额
已经有0人回复
-
上海应用技术大学招生调剂研究生
已经有8人回复
-
南京晓庄学院绿色能源材料团队招生
已经有0人回复
-
南京晓庄学院绿色能源材料团队招生
已经有0人回复
-
北方工业大学储能技术-02电化学储能与氢能方向招收2026级二次调剂学生
已经有0人回复
-
求助WO3.cif文件 对应PDF卡片 43-1035，单斜晶系 , P21/n 。
已经有1人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
- 化学化工区高分子版风云人物之荣誉版主篇-----薰衣草儿
已经有14人回复
apolloljy
银虫 (小有名气)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 90.2
- 散金: 5
- 帖子: 94
- 在线: 41小时
- 虫号: 928860
- 注册: 2009-12-15
- 性别: GG
- 专业: 微/纳机械系统
4楼2010-09-21 18:37:42
apolloljy
银虫 (小有名气)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 90.2
- 散金: 5
- 帖子: 94
- 在线: 41小时
- 虫号: 928860
- 注册: 2009-12-15
- 性别: GG
- 专业: 微/纳机械系统
★
darren21(金币+5):谢谢讨论！ 2010-09-21 12:31:41
yunruirui(金币+1):谢谢交流，欢迎常来 2010-09-21 17:28:11
darren21(金币+5):谢谢讨论！ 2010-09-21 12:31:41
yunruirui(金币+1):谢谢交流，欢迎常来 2010-09-21 17:28:11
|
ICP刻蚀，多了一个RF，其中环形RF用于产生交变电场，当电压足够高时，气体产生放电进入等离子态，而通过交变的电磁场使等离子体中电子路径改变，增加了等离子体密度。而另一个RF的作用与RIE中的类似，即为偏置电压，给等离子体提供能量，使其垂直作用于基片，进行刻蚀。 ICP正是多了这样一个RF，使得其腔体内等离子体密度要比RIE中高很多，产生的物种也多很多，例如活性游离基、亚稳态粒子、原子等，ICP刻蚀包含了物理和化学等复杂过程；RIE中仅为少量的电离的粒子，能量不高，与基底反应性差。 因此采用ICP刻蚀相对于RIE控制精度高，选择比好，刻蚀均匀性好，且污染较少，刻蚀的垂直度和光洁度较高。 |
2楼2010-09-21 11:37:54
darren21
金虫 (正式写手)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 785.1
- 散金: 10
- 帖子: 658
- 在线: 67.9小时
- 虫号: 635241
- 注册: 2008-10-24
- 性别: GG
- 专业: 半导体材料
3楼2010-09-21 12:36:25
6楼2012-10-09 13:51:28
10