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【求助】文章8月26号前必须修回，有几个问题请教大家。 已有24人参与
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文章内容：用动电位极化和EIS电化学阻抗评价钛合金微弧氧化膜的性能。 审稿人的第一个问题： Bc values appear to be too high for genuine Tafel behaviour. The fitting method used in Tafel analysis must be discussed in details. There appear to be no Tafel distinct region in anodic direction; hence a limiting current must be used to evaluate icorr. 请问：“limiting current” 的意义是什么，该怎样计算？当时用Cview进行的计算，自动tafel分析不能进行，跳出的提示是：“5mV of data required on each sides of Ecorr”。于是，我分别对anodic 和cathodic进行了独立的分析。得出Ac和Bc，呵呵，结果就是审稿人说Bc有问题……  初稿中的结果：   审稿人的第二个问题： For, EIS fitting, complex plot must be provided. 请问：这个complex plot 是complex plane plot（复平面图）吗？还是其他的东西。我用的zsimpwin拟合。初稿上放的是Bode图，参考文献上一般放的都只有Bode图啊。 [ Last edited by westlover on 2010-8-2 at 10:04 ] |
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westlover(金币+1):谢谢参与
westlover(金币+3): 2010-07-30 07:52:59
westlover(金币+1):谢谢参与
westlover(金币+3): 2010-07-30 07:52:59
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发表一下自己的见解，不一定对 第一个问题，tafel拟合要在Ecorr附近几十个mV范围内找到近似直线区，做切线得到斜率，计算Ac和Bc，而图中看不到明显的直线区，这也是审稿人说“There appear to be no Tafel distinct region in anodic direction;”的原因。另外，楼主选的自动拟合，没有指定拟合范围，建议用光标调整拟合范围试试 第二个问题，complex plot很难理解确切的意思，建议多提供一些上下文，不知楼主EIS放的是bode图还是nyquist图？ |
7楼2010-07-29 16:59:22
liuxuxiuping
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