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纳米艾艾

银虫 (小有名气)

[交流] 【请教】介孔碳合成时硅模板脱除的问题 已有5人参与

RT,我看到的文献上是说用加热的1M NaOH溶液洗涤去除,但是没说加热到多少度。其他文献上用的很多是 NaOH,不过方法各异。因此恳请有经验的牛人们指点一下
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纳米艾艾

银虫 (小有名气)

浓度大了会不会有别的影响呢?有文献的却是用2M的NaOH洗两次,但是没有提到加热的问题,这样还是要加热吗?另外,有一篇文章直接浸入到2M的NaOH溶液中15h,不知道是否可行
4楼2010-06-02 14:07:12
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violetbobo

木虫 (正式写手)

★ ★
小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖交流
Small(金币+1):谢谢参与 2010-06-01 18:21:30
一般90度,其他很多是用HF
2楼2010-06-01 18:06:12
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Aresmoon

木虫 (小有名气)


小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖交流
浓度还可以在大点,NaOH洗一次不容易完全除尽模板
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3楼2010-06-02 12:21:51
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wangjia11s

木虫 (正式写手)

继续讨论啊,大家
5楼2012-09-11 07:51:06
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