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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术讨论 » 【请教】介孔碳合成时硅模板脱除的问题
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纳米艾艾

银虫 (小有名气)

[交流] 【请教】介孔碳合成时硅模板脱除的问题 已有5人参与

RT，我看到的文献上是说用加热的1M NaOH溶液洗涤去除，但是没说加热到多少度。其他文献上用的很多是 NaOH，不过方法各异。因此恳请有经验的牛人们指点一下
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1楼 2010-06-01 15:16:41
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纳米艾艾

银虫 (小有名气)
浓度大了会不会有别的影响呢？有文献的却是用2M的NaOH洗两次，但是没有提到加热的问题，这样还是要加热吗？另外，有一篇文章直接浸入到2M的NaOH溶液中15h，不知道是否可行
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4楼2010-06-02 14:07:12
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