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liujiahui木虫 (著名写手)
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[交流]
【请教】为什么AFM样品表面出现小坑已有10人参与
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本人拟用AFM轻敲模式检测一纳米颗粒的大小。可是，最近的几次实验，不仅在mica上看不到颗粒，反而看到了很多小坑。 由于欲检测的颗粒大小未知，在5微米的范围内看到了一些几十个nm的颗粒，然而，缩小范围，以往都观察到了大量的0.5-0.8nm的小颗粒。 这两次的实验里，这些小颗粒，变成了小坑。 这两次实验和以往的不同还有就是，高度整体的分布。以前的实验里，一张图扫下来总是中间高两边低（被告知就是这样子的，我也不知道这是不是普遍现象，因为这个是可以经过处理去掉的，而文献里的AFM图应该都经过处理）；这两天扫出的谱，都是中间低，两边高。不知这与颗粒变小坑有没有关系。这些疑似是颗粒或者疑似是小坑的东西，是真实存在的吗？是样品还是mica上固有的呢？还是哪里调节的有问题呢？ 完全门外汗，现在傻傻的一张一张扫，感觉完全是在浪费时间。。。。望高手指点迷津。 纳米盘原文件： http://www.namipan.com/d/N-1-P-1 ... 13fb31b775253191800  [ Last edited by liujiahui on 2010-4-16 at 21:37 ] |
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2楼2010-04-16 07:43:33
charley86577
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3楼2010-04-16 08:09:17
yanhuostar
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4楼2010-04-16 08:21:48
hit1002
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mhwu514(金币+1):谢谢讨论 2010-04-16 09:19
liujiahui(金币+1):多谢交流。师兄只告诉我，减少敲击力能避免artifacts，下次我可以试一试增大敲击力。 2010-04-16 21:33
liujiahui(金币+2):增大了敲击力，果然就翻转过来了，可是，这样不就是说明，高度与敲击力有关吗？那我不就不能用这种方法测高度和颗粒大小了吗？ 2010-04-20 04:49
mhwu514(金币+1):谢谢讨论 2010-04-16 09:19
liujiahui(金币+1):多谢交流。师兄只告诉我，减少敲击力能避免artifacts，下次我可以试一试增大敲击力。 2010-04-16 21:33
liujiahui(金币+2):增大了敲击力，果然就翻转过来了，可是，这样不就是说明，高度与敲击力有关吗？那我不就不能用这种方法测高度和颗粒大小了吗？ 2010-04-20 04:49
| 云母片质量差（有杂质），在剥离后会有小坑。云母片上观察纳米粒子，样品制备非常关键，表面纳米粒子太少，找不到，看到的都是artifacts. 另探针与粒子表面是吸引力时，会有此现象，适当加大敲击力。 |
5楼2010-04-16 08:32:29
jianxian51
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mhwu514(金币+1):谢谢讨论 2010-04-16 12:12
liujiahui(金币+1):谢谢讨论！5um看不到坑，但也有可能看不到我的纳米粒子。我下次去问问师兄我现在用的仪器是否可用接触式。 2010-04-16 21:36
mhwu514(金币+1):谢谢讨论 2010-04-16 12:12
liujiahui(金币+1):谢谢讨论！5um看不到坑，但也有可能看不到我的纳米粒子。我下次去问问师兄我现在用的仪器是否可用接触式。 2010-04-16 21:36
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"一张图扫下来总是中间高两边低" 说实话，我用国内的AFM就存在这样的问题，但是基本是 前面高后面低，尤其快结束时，它就是出现不一致。这个估计就是测试系统的设计问题。 云母片如果选择不好确实会存在 “坑”，但是 5 um范围是基本看不到 纳米坑的。这时候的放大倍数还不算很大，仅仅是选区而已。 我用的是国内的 本源SPM4000 ，不是很好的设备，“接触式”效果比 "轻敲式"好得多！ |
6楼2010-04-16 09:51:13
liujiahui
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7楼2010-04-16 21:26:37
quping
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8楼2010-04-17 14:07:46
liujiahui(金币+1):怎么看出有电子学噪音呢？电流图怎么调？T_T 2010-04-19 05:12
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9楼2010-04-17 15:19:58
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10楼2010-04-17 17:05:01