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【求助】硅的腐蚀 已有10人参与
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大家好！ 一般硅的各向同性腐蚀液是HNO3 ∶HF = 3 ∶1 ，用于去除损伤层，大多数文献都只是这么简单指出。 但都没明确指出，HNO3 ∶HF 的比例是体积比，还是浓度比，或者是质量比或摩尔比。而且，不同级别的酸的浓度又不同。 请高手，给予澄清啊！ 并指明来源出处！ 共享！ |
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小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
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你现在还做硅片蚀刻吗?我司有这方面的需求,请看我发的求助帖,谢谢 http://muchong.com/bbs/viewthread.php?tid=10016625 |
17楼2016-02-29 14:39:42
ljjbpp
木虫 (正式写手)
- 应助: 3 (幼儿园)
- 金币: 1984.8
- 红花: 2
- 帖子: 384
- 在线: 128.3小时
- 虫号: 449518
- 注册: 2007-11-02
- 性别: GG
- 专业: 半导体材料
3楼2010-03-31 12:58:05
4楼2010-03-31 16:43:39
ljjbpp
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5楼2010-03-31 17:09:51