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【求助】半金属计算中ismear的选择
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各位，请问半金属材料在结构优化的时候ismear 应该选-5 还是0 ，2 呢？ vasp 说明上说金属用 1.2 半导体和绝缘体用-5. 0 可是半金属在费米面附近自旋向上的状态应该是金属啊。用-5好像变成一个窄带隙半导体了。 那是不是我们在计算态密度的时候，自旋up的部分用ismear=0 ,sigma = 0.05 来算半金属呢？请有这方面计算经验的人指教了！ 还有，看别人算半金属的态密度很平滑，我的有非常尖锐的锯齿峰,是不是他们计算的时候用的不是ismear=-5而导致的平滑化呢？还是用Origin做的一个B-spline平滑？ 请指教！ [ Last edited by aylayl08 on 2010-3-28 at 08:46 ] |
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