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heyuhit木虫 (著名写手)
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[交流]
【求助】通过化学反应蚀刻铜
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Background: 在蒸镀上Cu(厚度约100nm)表面的部分区域电镀上Sn(通过光刻胶实现),其结果为,蒸镀的Cu仍部分裸露在外,其余部分为电镀上的Sn。 问题: 想要把仍然裸露在外的Cu用化学反应的方法蚀刻掉,但同时Sn完好无损(溶液不能与Sn反应)。什么样的溶液可以满足要求? 已经试过了4wt.%过硫酸钾溶液,结果不理想: 在Cu和Sn相接的区域,基本很难把Cu腐蚀掉。同时还不清楚该溶液是否腐蚀Sn。找了很久,没有找到有用的信息,可能也是找的地方不对,希望大家能帮忙,谢谢。 同时如果有其他版更适合,请斑竹建议。 |
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