24小时热门版块排行榜    

查看: 421  |  回复: 3
当前主题已经存档。

风继续吹526

银虫 (小有名气)

[交流] 【版务】石墨靶什么条件下才容易被溅射

小弟在用磁控溅射法溅射石墨靶的时候,感觉石墨靶很难溅射,不知道哪位大侠能否指点一二,是不是需要高温和高的背底真空?偏压是不是越高越好?需不需要加什么反应气?
拜谢!
回复此楼
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

coating8397

挺好溅射的啊。ar就行
2楼2009-12-01 09:46:32
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

风继续吹526

银虫 (小有名气)

引用回帖:
Originally posted by coating8397 at 2009-12-1 09:46:
挺好溅射的啊。ar就行

能否详细说一下?谢谢
3楼2009-12-01 09:59:51
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

ppttcug

木虫 (小有名气)

甲虫

★ ★ ★ ★
小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖交流
小木虫:)(金币+3,VIP+0):3q 12-1 20:53
你先说自己的实验条件再让别人发现问题。我觉得溅射是最没有什么技术含量的事情,比VCD容易调整多了。

太高的真空不需要,高温也没有需要,气体用氩气即可,虽然理论上用质量和碳质量接近的氖气更好。偏压一般即可,电压一般和气压成正比调整。你看到辉光没有?如果看到辉光却没有镀上去,可能需要考虑一下基片温度是否过高或者过低。
4楼2009-12-01 10:19:55
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖
相关版块跳转 我要订阅楼主 风继续吹526 的主题更新
普通表情 高级回复 (可上传附件)
信息提示
请填处理意见