| 查看: 366 | 回复: 2 | |||
| 当前主题已经存档。 | |||
xhzhi1985木虫 (著名写手)
|
[交流]
【请教】关于薄膜介电常数的测量
|
||
| 请教一下，我想测在硅片或石英片上沉积的薄膜的介电常数，但测量时必须带着衬底一块测量，那么测量的结果应该是薄膜和衬底两部分贡献的结果，有没有什么处理的方法用于除去衬底的贡献对测量结果的影响，衬底的介电常数已知，希望有高手给指导一下，谢谢！ |
回复此楼» 猜你喜欢
售SCI文章，我:8O.5.5.1O.54,科目全,可十急
已经有20人回复
-
越来越担心硕士毕业后没有竞争力了
已经有14人回复
-
论文的挂名怎么评判贡献？基金申请中，排名第一的挂名文章
已经有3人回复
-
申博自荐 2篇一区TOP+1篇EI+2公开发明专利 2027博士申请
已经有3人回复
-
闲聊
已经有6人回复
-
申博求助
已经有4人回复
shijp_1982
新虫 (初入文坛)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 158
- 帖子: 7
- 在线: 6.4小时
- 虫号: 797935
- 注册: 2009-06-24
- 性别: GG
- 专业: 集成电路制造与封装
2楼2009-11-27 21:00:51
xhzhi1985
木虫 (著名写手)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 14922.7
- 散金: 731
- 红花: 2
- 沙发: 1
- 帖子: 2372
- 在线: 300.5小时
- 虫号: 846695
- 注册: 2009-09-13
- 性别: GG
- 专业: 半导体材料
3楼2009-12-02 19:20:48