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请教一下,CuO在进行理论计算后带隙为0 eV
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葡萄爱学习
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专业: 催化化学
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请教一下,CuO在进行理论计算后带隙为0 eV
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请教一下,CuO在进行理论计算后带隙为0 eV。CuO作为半导体材料,没有带隙,这样的结果正常吗?或者问题在哪里?图片链接:
https://pan.baidu.com/s/11tI1hSAgPHCVtGt2X_i_uQ?pwd=2yjw
提取码: 2yjw 复制这段内容后打开百度网盘手机App,操作更方便哦
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1楼
2025-01-14 18:32:11
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3楼
2025-01-17 18:49:36
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专业: 催化化学
计算的不对,以实测的为准
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岁月太匆匆和谁一起走过
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2025-01-15 09:56:04
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【答案】应助回帖
CuO(铜氧化物)在实验中表现为具有带隙的半导体材料,带隙大约在1.2 eV左右。带隙为0 eV通常意味着材料被认为是金属,或者计算中存在问题。
解决方法:
尝试使用DFT+U方法来修正铜氧化物中的电子关联效应,通常可以更准确地计算带隙。
确保使用正确的CuO晶体结构,考虑可能的晶体缺陷或表面效应。
如果条件允许,使用GW近似等更高精度的方法来计算带隙。
总之,带隙为0 eV的结果是不正常的,可能与计算方法或模型选择相
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4楼
2025-01-18 00:19:29
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:
Originally posted by
rlafite
at 2025-01-18 00:19:29
CuO(铜氧化物)在实验中表现为具有带隙的半导体材料,带隙大约在1.2 eV左右。带隙为0 eV通常意味着材料被认为是金属,或者计算中存在问题。
解决方法:
尝试使用DFT+U方法来修正铜氧化物中的电子关联效应,通常可 ...
好的,谢谢
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5楼
2025-01-18 15:09:39
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