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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 光刻显影微纳加工
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hubuhurui

新虫 (初入文坛)

[求助] 光刻显影微纳加工

本人在氧化镓薄膜表面光刻叉指电极，光刻显影后得到如下图案，不知怎么判断显影效果是否较好，后续经过真空蒸镀的方法镀上Ti/Au电极，结果在用丙酮洗脱电极的时候电极大面积脱落，不知道是哪里出了问题，请各位大佬指点指点。（使用的光刻胶是AZ5214E，当作正叫使用，有前烘和后烘处理，且在后烘之后用plasma打了几分钟处理表面的胶后再进行蒸镀）
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1楼 2024-11-18 20:18:14
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NanoPi

银虫 (著名写手)
你这是lift off，要用负胶，主要厚度

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2楼2024-11-18 20:29:21
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hubuhurui

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by NanoPi at 2024-11-18 20:29:21
你这是lift off，要用负胶，主要厚度

请问一下您说的厚度是光刻胶的厚度还是蒸镀电极的厚度？

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3楼2024-11-18 20:33:20
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NanoPi

银虫 (著名写手)
引用回帖:
3楼: Originally posted by hubuhurui at 2024-11-18 20:33:20
请问一下您说的厚度是光刻胶的厚度还是蒸镀电极的厚度？
...

光刻胶厚度

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4楼2024-11-20 08:39:44
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