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hubuhurui

新虫 (初入文坛)

[求助] 光刻显影微纳加工

本人在氧化镓薄膜表面光刻叉指电极,光刻显影后得到如下图案,不知怎么判断显影效果是否较好,后续经过真空蒸镀的方法镀上Ti/Au电极,结果在用丙酮洗脱电极的时候电极大面积脱落,不知道是哪里出了问题,请各位大佬指点指点。(使用的光刻胶是AZ5214E,当作正叫使用,有前烘和后烘处理,且在后烘之后用plasma打了几分钟处理表面的胶后再进行蒸镀)
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NanoPi

银虫 (著名写手)


你这是lift off,要用负胶,主要厚度

发自小木虫IOS客户端
2楼2024-11-18 20:29:21
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hubuhurui

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by NanoPi at 2024-11-18 20:29:21
你这是lift off,要用负胶,主要厚度

请问一下您说的厚度是光刻胶的厚度还是蒸镀电极的厚度?

发自小木虫IOS客户端
3楼2024-11-18 20:33:20
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NanoPi

银虫 (著名写手)


引用回帖:
3楼: Originally posted by hubuhurui at 2024-11-18 20:33:20
请问一下您说的厚度是光刻胶的厚度还是蒸镀电极的厚度?
...

光刻胶厚度

发自小木虫IOS客户端
4楼2024-11-20 08:39:44
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