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磁控溅射相关问题 已有2人参与
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大佬们好，磁控溅射轰击金属靶材，例如Al、Sn等，能够轰击出相应的原子。但如果轰击的靶材是无机化合物，例如ZnGa2O4，轰击出来的是Zn,Ga,O原子还是ZnGa2O4分子呢？ 发自小木虫IOS客户端 |
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【答案】应助回帖
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首先了解磁控溅射的解释更多的是通过高能粒子撞击动能转换的方式将靶材中的材料轰击出来。过程中溅射出的成分可能是单个分子，原子，原子团等。在溅射过程，如果能量足够，靶材里有易挥发，易分解的成分，则可能发生相应的反应。不清楚你说的ZnGa2O4的性质。首先定制的靶材中应该是以ZnGa2O4形式存在，如果轰击能量足够，化学键断裂可能会出现反应后的产物。 另外看到有介绍在合金靶材中，溅射出的组分比例就并非定制靶材的比例。溅射系数高的优先被溅射出去，组分变化，同时热力学作用下表层扩散迁移，使表层达到稳定比例。得到的膜跟靶材的比例会有差异。 这样想制备特定成分的膜层，就会考虑在反应过程中添加反应气体等方式控制组分。 |
2楼2024-11-13 17:16:22
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